离子镀膜加工包括溅射镀膜和离子镀两种方式。离子溅射镀膜是基于离子溅射效应的一种镀膜方式，适用于合金膜和化合物膜的镀制。中文名：离子镀膜，它是一项发展迅速受人青睐的新技术，使用方式是溅射镀膜和离子镀。


特点：膜层的绕镀性好等
离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。是一项发展迅速、受人青睐的新技术。
广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击。形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。

离子镀法镀膜法是将真空镀膜的蒸发工艺与溅射法的溅射工艺相结合的一种新工艺，即蒸发后的气体在辉光放电中，在碰撞和电子撞击的反应中形成离子，在电场中被加速，而后在玻璃板上凝结成膜.